清溢光电股份有限公司（股票代码：688389）是中国半导体显示领域关键光电材料的高新技术企业，专注于掩膜版的研发、生产与销售，是国内少数能够实现掩膜版全产业链自主可控的企业之一，公司成立于2008年，总部位于上海市浦东新区，并在广东深圳、湖北武汉等地设有研发及生产基地，产品广泛应用于平板显示、半导体、触控面板、OLED等下游领域，为国内显示产业及半导体产业的自主化提供了重要支撑。
核心业务与产品布局
清溢光电的核心业务为掩膜版（Photomask，简称“光罩”）的研发、制造与销售，掩膜版是半导体和平板显示制造过程中的“母版”，通过曝光技术将电路图案精确转移到基板上，其精度直接影响终端产品的性能与良率，根据下游应用领域，公司产品主要分为三大类：
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平板显示掩膜版
这是清溢光电的传统优势领域，产品涵盖TFT-LCD掩膜版和OLED掩膜版，TFT-LCD掩膜版包括Array（阵列）、Cell（成盒）、Color Filter（彩膜）等关键制程掩膜版，已实现G8.5代线及以下世代的全覆盖；OLED掩膜版则聚焦柔性显示领域，能够满足高精度、高平整度的技术要求，用于AMOLED面板的制造。 -
半导体掩膜版
公司积极布局半导体掩膜版市场，产品包括逻辑芯片、存储芯片、功率半导体等领域的掩膜版，目前已实现0.35μm及以下制程的掩膜版量产，并在28nm、14nm等先进制程研发上取得突破，是国内少数能够为晶圆制造企业提供关键掩膜版的企业。 -
其他特种掩膜版
针对Micro-LED、Mini-LED、OLED照明等新兴领域，清溢光电开发了高精度微结构掩膜版，支持更高分辨率、更高精度的图案转移需求，为下游技术创新提供材料支撑。
技术研发与创新能力
清溢光电以“技术立企”为发展理念，持续加大研发投入，构建了覆盖基础材料、精密加工、检测分析的全技术体系，公司拥有国家级企业技术中心、博士后科研工作站，研发团队由海内外半导体与显示领域专家组成，核心技术人员平均拥有15年以上行业经验。
在技术突破方面,公司实现了多项“从0到1”的突破：
- 材料技术：自主研发了高纯度铬基材料、石英基板表面处理技术，解决了掩膜版在长期使用中易变形、易污染的行业难题；
- 制程工艺：开发了纳米级图案化技术，精度达到10nm级别，满足先进制程芯片和高分辨率显示面板的需求；
- 检测技术：构建了涵盖光学、电子、原子力显微镜的多维度检测体系，确保掩膜版缺陷控制在0.1μm以下。
截至2023年,公司累计申请专利300余项，其中发明专利占比超60%，参与制定多项国家及行业标准，技术实力位居国内领先地位。
产业链地位与市场布局
掩膜版作为半导体和显示产业的上游核心材料,长期被日本、美国企业垄断，清溢光电通过十余年技术积累，打破了国外企业在高端掩膜版领域的垄断，成为国内唯一一家同时实现G8.5代LCD掩膜版和OLED掩膜版批量供应的企业。
在客户资源方面,公司深度绑定京东方、TCL华星、天马微电子、惠科等国内头部面板厂商，并进入三星、LG、夏普等国际供应链体系，半导体领域，公司为中芯国际、长江存储、华虹宏力等晶圆厂提供配套服务，国产化替代率持续提升。
公司产能布局方面,上海基地聚焦高端掩膜版研发与生产，深圳基地侧重显示掩膜版规模化制造，武汉基地则重点建设半导体掩膜版产线，形成“研发+生产+服务”的全国化布局，年产能超30万张，产能利用率保持在85%以上。
发展战略与未来规划
面向未来,清溢光电以“成为全球领先的光电材料企业”为愿景，制定了三大发展战略：
- 技术引领：持续投入先进制程掩膜版研发，重点突破EUV光刻掩膜版、3D NAND掩膜版等“卡脖子”技术，推动半导体国产化进程；
- 产能扩张：推进武汉半导体掩膜基地二期项目，预计2025年实现半导体掩膜版产能翻倍，满足国内晶圆厂扩产需求；
- 跨界融合：拓展Micro-LED、量子点显示等新兴领域掩膜版产品，布局AR/VR、智能汽车等下游应用场景，培育新的增长点。
公司积极践行绿色制造,通过优化生产工艺、推广循环材料，降低能耗与污染，获评“国家级绿色工厂”，实现经济效益与社会效益的统一。
社会责任与行业贡献
作为国内光电材料领域的领军企业,清溢光电始终秉持“产业报国”理念，公司牵头成立“中国光学光电子行业协会掩膜版分会”，推动行业技术交流与标准制定；与高校合作建立“产学研用”人才培养基地，累计为行业输送专业人才超500人；在疫情期间，保障了国内面板及半导体企业的供应链稳定，为产业链安全提供了重要支撑。
相关问答FAQs
Q1：清溢光电的掩膜版产品与国际巨头相比，优势在哪里？
A：清溢光电的核心优势在于“本土化服务+快速响应+性价比”，相比日本DNP、美国Photronics等国际企业，公司能够提供更短的交货周期（平均缩短30%）、更灵活的定制化服务，且价格更具竞争力，公司深度理解国内客户需求，在G8.5代大尺寸掩膜版、柔性OLED掩膜版等领域技术已达到国际先进水平，国产化替代优势显著。
Q2：清溢光电在半导体掩膜版领域的进展如何？未来是否有计划进军EUV光刻掩膜版？
A：清溢半导体掩膜版已实现28nm制程量产，14nm制程进入客户验证阶段，产品覆盖逻辑芯片、DRAM/NAND存储芯片等领域，在EUV光刻掩膜版方面，公司已启动预研工作，联合国内高校及科研机构攻克EUV掩膜版的关键材料与工艺技术，预计在“十四五”期间实现技术突破，填补国内空白。
